Molecular dynamics simulations of silicon carbide nanowires under single-ion irradiation

辐照 材料科学 碳化硅 纳米线 成核 分子动力学 离子 纳米技术 纳米 化学物理 辐射损伤 纳米结构 光电子学 化学 复合材料 核物理学 物理 计算化学 有机化学
作者
Wanzhen He,Chang Chen,Zhiping Xu
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:126 (12) 被引量:4
标识
DOI:10.1063/1.5121873
摘要

Understanding irradiation effects is crucial for risk management in space science as well as technological development in material processing, imaging, and radiotherapy. The single-particle event is a stepping stone to this complicate, multiscale problem, which finds relevance in low-dose irradiation where long-term effects are usually concerned. Using molecular dynamics simulations, we explore the responses of crystalline silicon carbide nanowires under single-Ga-ion irradiation. It turns out that the channeling mode is more probable compared to focusing for crystalline surfaces at a normal angle of incidence. We find that the surface of nanowires plays a dual role as sites for both defect nucleation and annihilation, leading to notable diameter-dependent responses to the irradiation. The defects created in a single-ion event are localized within a few nanometers, and there exists a critical diameter for nanowires to be minimally damaged. These results allow quantitative assessment of the irradiation damage of nanostructures and guide their design for irradiation-resistant applications.

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