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Design and High-Resolution Characterization of Silicon Wafer-like Omniphobic Liquid Layers Applicable to Any Substrate

材料科学 接触角 薄脆饼 聚二甲基硅氧烷 涂层 基质(水族馆) 图层(电子) 纳米技术 三氯氢硅 去湿 润湿 复合材料 光电子学 海洋学 地质学
作者
Behrooz Khatir,Sadaf Shabanian,Kevin Golovin
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:12 (28): 31933-31939 被引量:58
标识
DOI:10.1021/acsami.0c06433
摘要

Liquid fouling can reduce the functionality of critical engineering surfaces. Recent studies have shown that minimizing contact angle hysteresis is a promising strategy for achieving omniphobic (all-liquid repellent) properties, thereby inhibiting fouling. Prior omniphobic films can repel a broad range of liquids, but the applicability of these coatings has always been limited to silicon wafers or smooth glass. Here we develop a facile procedure to generate an omniphobic coating on any surface, including metals, paper, ceramics, etc. The coating involves depositing an ultrasmooth, silicon wafer-like silica layer and then treating this layer with a highly reactive chlorosilane, which grafts polydimethylsiloxane chains onto the surface. Negligible contact angle hysteresis (≤1°) for various liquids, including ultralow surface tension oils, alcohols, and fluoro-solvents, was achieved on many different substrates regardless of their initial roughness or chemistry. In fact, the contact angle hysteresis was so low we were forced to propose an alternate measurement technique, using tilt angles, that reduced the inherent errors associated with traditional contact angle goniometry. The coating's durability was characterized and, when it was damaged, could be repeatedly repaired, fully restoring the omniphobic properties to their initial state.
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