A method to numerically determine the secondary electron yield considering effects of the surface morphology

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作者
Ning Yang,Bai‐Peng Song,Xiong Yang,Run-Dong Zhou,Guangyu Sun,Jianyi Xue,Haibao Mu,Guanjun Zhang
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:130 (6) 被引量:5
标识
DOI:10.1063/5.0055542
摘要

Secondary electron emission (SEE) of solid materials due to electron bombardment is influenced by numerous properties of materials, where the surface condition plays a critical role in the value of secondary electron yield (SEY). Here, a 3D random microstructure surface model is established to simulate realistic surface morphology and study its effects on SEY by implementing a path tracing algorithm and finite element method. It is found that electron collision frequency on surfaces is strongly affected by local surface geometry parameters, namely the vertical height and the distance between similar features along the horizontal direction of random microstructure surfaces. Manipulating the interaction angle and the inter-barrier collision frequency could quantitively suppress or intensify SEE, allowing for functional design of solid material surfaces under various contexts. In addition, empirical roughness parameters (Ra, Rz) lack certain microscopic information. A method is proposed to estimate secondary electron yield numerically for a given material surface geometry. It provides copious utilities in practical SEE-related applications.
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