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Effect of Post-Annealing on Low-Temperature Solution-Processed High-Performance Indium Oxide Thin Film Transistors

材料科学薄膜晶体管退火（玻璃）铟氧化物光电子学晶体管工程物理复合材料冶金电气工程图层（电子）工程类电压

作者

Yeonwha Oh,Hoon Kim,Kyu‐Ha Baek,Lee‐Mi Do,Ga‐Won Lee,Chan‐mo Kang

出处

期刊：Science of Advanced Materials [American Scientific Publishers]
日期：2017-04-01 卷期号：10 (4): 518-521 被引量：4

标识

DOI：10.1166/sam.2018.3054

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