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Ferroelectric Domains Engineering in 2D Van Der Waals Ferroelectric α‑In2Se3 Via Flexoelectric Effect

铁电性 范德瓦尔斯力 压电响应力显微镜 极化(电化学) 材料科学 凝聚态物理 电场 沟槽 光电子学 纳米电子学 极化密度 挠曲电 纳米技术 物理 化学 电介质 磁场 磁化 物理化学 图层(电子) 量子力学 分子
作者
Qinming He,Bin Jiang,Jiayu Ma,Weijin Chen,Xin Luo,Yue Zheng
出处
期刊:Small methods [Wiley]
卷期号:9 (5): e2401549-e2401549 被引量:3
标识
DOI:10.1002/smtd.202401549
摘要

Abstract 2D) Van der Waals ferroelectrics offer the opportunity for developing novel nanoelectronics devices. For device applications, it is necessary to generate controllable ferroelectric polarization domains and achieve non‐destructive polarization switching. However, it is very challenging to use the electric field to manipulate the domain state of ultra‐thin ferroelectric film due to the large leakage current and even electric breakdown. Here, the flexoelectric effect on the manipulation of polarization states at bending α ‐In 2 Se 3 flakes is explored via piezoresponse force microscopy (PFM). By introducing patterned Si trench substrates, the stripe micron‐scale ferroelectric domains with alternating arrangements of the out of‐plane polarization in the curved α ‐In 2 Se 3 are observed. It is found that the polarization at the bending region of α ‐In 2 Se 3 can be directly reversed by the large flexoelectric field. The controllable mechanical modulation of α ‐In 2 Se 3 ferroelectric domains opens up potential applications of ferroelectrics in strain engineering functional devices.
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