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Cryogenic atomic layer etching of SiO2 using CH2F2/Ar plasma for improved process window for nanoscale fabrication
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作者
Ji Hwan Kim,
Jae Hyeon Kim,
Gwang Ho Lee,
Yu Jin Heo,
Gilgueng Hwang,
Y. Cheon,
Hee Sam Cheon,
Yoon Joo Jeong,
In Hyeok Kho,
Hyo Jong Shin,
Changhee Lee,
In Young Bang,
Ranju Jung,
Gi-Chung Kwon
出处
期刊：
Applied Surface Science
[Elsevier BV]
日期：2025-10-31
卷期号：719: 165056-165056
被引量：3
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2025.165056
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