P‐208: Ultra High‐resolution patterning technology with Fine silicon mask

材料科学 纳米技术 光电子学 高分辨率 地质学 遥感
作者
Qingyu Huang,Lu Wang,Weijing Wang,Xiaoyun Liu,Fengjie Zhang,Zhongyuan Sun,Zhi‐Qiang Jiao,Guangcai Yuan
出处
期刊:Sid's Digest Of Technical Papers [Wiley]
卷期号:55 (1): 2173-2176
标识
DOI:10.1002/sdtp.18039
摘要

Side by side RGB OLEDs‐on‐Silicon backplane holds great promise for high brightness, high resolution and low cost Micro OLED displays. The main challenge of vacuum thermal evaporation (VTE) patterning technique is to get a submricon‐size shadow distance. Herein, we have explored the relation of shadow distance with mask‐substrate gap, as well as the relationship of shadow distance with evaporation angle. The achievements verify the possibility of manufacturing the ultra‐high resolution side by side RGB AMOLEDs with >4000ppi. The study of ultra‐high resolution evaporation patterning need to be expanded for the OLED microdisplays futures.
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