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Al2O3 by atmospheric pressure chemical vapour deposition

钝化 化学气相沉积 大气压力 材料科学 沉积（地质） 硅 化学工程 环境科学 光电子学 纳米技术 气象学 地质学 图层（电子） 工程类 地理 古生物学 沉积物
作者
Lachlan E. Black
出处
期刊：Institution of Engineering and Technology eBooks [Institution of Engineering and Technology]
日期：2018-11-07 卷期号：: 81-94
标识
DOI：10.1049/pbpo106e_ch7
摘要
The author provides a historical review of research into the atmospheric pressure chemical vapour deposition (APCVD) of Al2O3 for silicon surface passivation in solar cell devices, considering deposition temperature influence on excess carrier lifetime, film thickness and interface state density.
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