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作者
Zai‐Quan Xu,Christopher Elbadawi,Toan Trong Tran,Mehran Kianinia,Xiuling Li,Daobin Liu,Timothy B. Hoffman,Minh Nguyen,Sejeong Kim,James H. Edgar,Xiaojun Wu,Li Song,Sajid Ali,Michael J. Ford,Milos Toth,Igor Aharonovich
出处
期刊：Nanoscale
[Royal Society of Chemistry]
日期：2018-01-01
卷期号：10 (17): 7957-7965
被引量：133
摘要
Ar plasma etching and annealing are highly robust in generating oxygen related single photon emitters in hBN.
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