Atomic Layer Etching Applications in Nano-Semiconductor Device Fabrication

材料科学 原子层沉积 半导体 蚀刻(微加工) 纳米技术 半导体器件制造 光电子学 图层(电子) 反应离子刻蚀 干法蚀刻 薄脆饼
作者
Dae Sik Kim,Jae Bin Kim,Da Won Ahn,Jin Hyun Choe,Jin Seok Kim,Eun Su Jung,Sung Gyu Pyo
出处
期刊:Electronic Materials Letters [Springer Science+Business Media]
卷期号:19 (5): 424-441 被引量:28
标识
DOI:10.1007/s13391-023-00409-4
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