Ultraviolet assisted liquid spray dielectric barrier discharge plasma-induced vapor generation for sensitive determination of arsenic by atomic fluorescence spectrometry

化学 介质阻挡放电 甲酸 检出限 紫外线 分析化学(期刊) 辐照 水蒸气 质谱法 色谱法 光电子学 电极 有机化学 物理 物理化学 核物理学
作者
Xing Liu,Cheng Guo,Chun Yang,Guan Wang,Shuyang Li,Yixiao Li,Hongtao Zheng,Shenghong Hu,Zhenli Zhu
出处
期刊:Talanta [Elsevier BV]
卷期号:257: 124339-124339 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.talanta.2023.124339

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