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Process stability and morphology optimization of very thick 4H–SiC epitaxial layers grown by chloride-based CVD

外延 化学气相沉积 材料科学 碳化硅 形态学（生物学） 氯化物 碳化物 兴奋剂 硅 化学工程 沉积（地质） 光电子学 纳米技术 复合材料 图层（电子） 冶金 生物 工程类 古生物学 遗传学 沉积物
作者
Milan Yazdanfar,P. Stenberg,Ian D. Booker,Ivan G. Ivanov,Olof Kordina,Henrik Pedersen,Erik Janzén
出处
期刊：Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
日期：2013-06-07 卷期号：380: 55-60 被引量：26
标识
DOI：10.1016/j.jcrysgro.2013.05.037
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