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Investigation of Patterned Plasma Etching Processes for HJT-IBC Solar Cells: Keys to Maintaining a High Electronic Quality Surface

蚀刻（微加工）等离子体等离子体刻蚀质量（理念）光电子学曲面（拓扑）材料科学纳米技术物理几何学数学图层（电子）量子力学

作者

Junkang Wang,Chandralina Patra,Weixi Wang,Monalisa Ghosh,Pavel Bulkin,D. Daineka,Kassiogé Dembélé,Pere Roca i Cabarrocas,Karim Ouaras,Sergej Filonovich,Mathieu Frégnaux,Muriel Bouttemy,Erik Johnson

出处

期刊：Solar Energy Materials and Solar Cells [Elsevier BV]
日期：2025-04-18 卷期号：288: 113653-113653

标识

DOI：10.1016/j.solmat.2025.113653

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