Large-Emitting-Area Quantum Dot Light-Emitting Diodes Fabricated by an All-Solution Process

量子点 光电子学 发光二极管 二极管 过程(计算) 材料科学 计算机科学 操作系统
作者
Ning Tu,S. W. Ricky Lee
出处
期刊:International Journal of Molecular Sciences [Multidisciplinary Digital Publishing Institute]
卷期号:24 (18): 14350-14350 被引量:4
标识
DOI:10.3390/ijms241814350
摘要

Quantum dots (QDs) have attracted a lot of attention over the past decades due to their sharp emission spectrum and color, which can be tuned by changing just the particle size and chromophoric stability. All these advantages of QDs make quantum dot light-emitting diodes (QLEDs) promising candidates for display and light-source applications. This paper demonstrates a large-emitting-area QLED fabricated by a full-solution process. This QLED is composed of indium tin oxide (ITO) as the anode, poly(3,4-ethylenedioxythiophene)-poly(styrenesulfonate) (PEDOT: PSS) as the hole injection layer (HIL), and poly(N,N'-bis-4-butylphenyl-N,N'-bisphenyl)benzidine (poly-TPD) as the hole-transport layer (HTL). The light-emitting layer (EML) is composed of green CdSe/ZnS quantum dots. By applying the ZnO nanoparticles as the electron-injection/transport layer, QLED devices are prepared under a full-solution process. The large-emitting-area QLED exhibits a low turn-on voltage of around 2~3 V, and the International Commission on Illumination (CIE) 1931 coordinate value of the emission spectrum was (0.31, 0.66). The large emitting area and the unique QLED structure of the device make it possible to apply these features to inkjet printing quantum dot light sources and quantum dot display applications.
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