Narrow linewidth laser based on a sidewall grating active distributed Bragg reflector

激光线宽 材料科学 光学 分布式布拉格反射镜 激光阈值 激光器 栅栏 半导体激光器理论 光纤布拉格光栅 分布布拉格反射激光器 光电子学 半导体 物理
作者
Meng-Wei Sheng,You‐Zeng Hao,Wei Wang,Zhong Dong,Yue‐De Yang,Jin‐Long Xiao,Yong‐Zhen Huang
出处
期刊:Optics Express [Optica Publishing Group]
卷期号:32 (7): 12012-12012 被引量:1
标识
DOI:10.1364/oe.514686
摘要

We demonstrated a narrow linewidth semiconductor laser based on a deep-etched sidewall grating active distributed Bragg reflector (SG-ADBR). The coupling coefficients and reflectance were numerically simulated for deep-etched fifth-order SG-ADBR, and a reflectance of 0.86 with a bandwidth of 1.04 nm was obtained by the finite element method for a 500-period SG-ADBR. Then the fifth-order SG-ADBR lasers were fabricated using projection i-line lithography processes. Single-mode lasing at 1537.9 nm was obtained with a high side-mode suppression ratio (SMSR) of 65 dB, and a continuous tuning range of 10.3 nm was verified with SMSRs greater than 53 dB. Furthermore, the frequency noise power spectral density was characterized, from which a Lorentzian linewidth of 288 kHz was obtained.
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