A Comparative Study of Cetylpyridinium Chloride and Cetyltrimethyl Ammonium Chloride as Levelers in Acidic Copper Electroplating: Electrochemical Evaluation and Theoretical Calculation

氯化十六烷基吡啶 氯化铵 氯化物 化学 电化学 电镀 无机化学 核化学 有机化学 肺表面活性物质 电极 物理化学 生物化学 图层(电子)
作者
Hong Jiang,Xuefeng Zhang,Yawen Wang,Chaoli Tan,Haobin Zou,Yi Wang,Shuqin Song
标识
DOI:10.2139/ssrn.5033246

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