Vertically Stacked vdW Double Heterojunction Photodiode with Ultrawide Bandgap Gallium Oxide Electron Reservoir

光电流 材料科学 光电子学 光电二极管 异质结 响应度 光探测 带隙 半导体 光电探测器 暗电流 光学 物理
作者
Chan Ho Lee,Youngseo Park,Sungkyu Kim,Yeong Je Jeong,Y. H. Ahn,Young Chul Kim,Junseok Heo,Geonwook Yoo
出处
期刊:Advanced Optical Materials [Wiley]
卷期号:10 (19) 被引量:6
标识
DOI:10.1002/adom.202200611
摘要

Abstract Co‐integration of visible and infrared (IR) photodetection into a simple configuration is of essential importance for broadband multispectral imaging, and various heterostructures based on group IV, III–V, and recent 2D semiconductors have been studied in efforts to circumvent limits on photoresponsivity and response speed in IR ranges. In this work, a vertically stacked double heterojunction (DHJ) photodiode (PD) with ultrawide‐bandgap gallium oxide (Ga 2 O 3 ) is reported on, and the performance is compared with p‐WSe 2 /n‐Ge PD. The fabricated n‐Ga 2 O 3 /p‐WSe 2 /n‐Ge PD responds to a broad spectral range from vis to shortwave IR (SWIR) (1550 nm) with a response time of ≈2.6 µs and responsivity of 17.2 A W −1 . The superior performance is attributed to amplified photocurrent gains, and the additional n‐Ga 2 O 3 has a high electron carrier density with negligible hole density at room temperature and thus, can play a role as an electron reservoir while being transparent to the spectral ranges. vScanning photocurrent microscopy analysis is performed to provide the mechanism. The demonstrated SWIR imaging shows that the proposed DHJ provides a potential pathway for high‐speed multispectral vision applications.
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