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The kinetics of crack propagation in CVD graphene film

石墨烯 之字形的 材料科学 化学气相沉积 撕裂 复合材料 断裂力学 动力学 纳米技术 几何学 数学 物理 量子力学
作者
Zi Guo,Chengda Li,Pengjiao Zu,Ze Liu,Jun Li,Jia Li
出处
期刊:Diamond and Related Materials [Elsevier BV]
卷期号:126: 109056-109056
标识
DOI:10.1016/j.diamond.2022.109056
摘要

The preparation of graphene by chemical vapor deposition (CVD) is often accompanied by the growth of some structural defects, one of which is crack. The understanding of crack formation is key to the preparation of high-quality graphene films. In this work, the crack defects of graphene grown on liquid copper substrates by chemical vapor deposition (CVD) were examined. Then, the effects of growth temperature, growth time and total pressure on kinetics of cracks were analyzed, respectively. It is found that (I) The crack appeared during the period of graphene growth, not the cooling process of graphene; (II) the crack preferred to propagate at the vertex angle of etched hexagonal holes; (III) the crack tended to orient along the same direction—the zigzag direction. Finally, a dynamic mechanism of crack growth was proposed. Our study provides significant insights into the tearing mechanism of defective graphene. • The cracks at the vertex of the etched hexagonal holes formed during the growth of graphene. • The graphene cracks preferred to propagate along the zigzag direction and they are parallel to each other. • A possible kinetics mechanism for crack propagation was proposed.

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