Kinetically Stabilized Hafnia Ferroelectric of Al-Doped HfO₂ Film by Fast Ramping and Fast Cooling Process

哈夫尼亚 铁电性 兴奋剂 材料科学 光电子学 过程(计算) 电气工程 工程物理 计算机科学 复合材料 物理 工程类 电介质 操作系统 陶瓷 立方氧化锆
作者
Lingwei Zhang,Giuk Kim,Sangho Lee,Hunbeom Shin,Young-Jin Lim,Kang Kim,Il‐Kwon Oh,Sang‐Hee Ko Park,Junho Ahn,Sanghun Jeon
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:71 (12): 7398-7404 被引量:1
标识
DOI:10.1109/ted.2024.3475308
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