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Low Contact Resistance WSe2 p-Type Transistors with Highly Stable, CMOS-Compatible Dopants

掺杂剂 接触电阻 CMOS芯片 材料科学 晶体管 光电子学 纳米技术 掺杂剂活化 兴奋剂 电气工程 工程类 电压 图层（电子）
作者
Inha Kim,Naoki Higashitarumizu,I. K. M. Reaz Rahman,Shu Wang,Hyong Min Kim,Jamie Geng,Rajiv Ramanujam Prabhakar,Joel W. Ager,Ali Javey
出处
期刊：Nano Letters [American Chemical Society]
日期：2024-10-18 被引量：5
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1021/acs.nanolett.4c02948
摘要
High contact resistance has been a bottleneck in developing high-performance transition-metal dichalcogenide (TMD) based
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