An AlN/AlxGa1-xN/GaN graded channel HEMT with enhanced power and linearity performance

高电子迁移率晶体管 跨导 互调 线性 材料科学 光电子学 功率密度 电压 功勋 击穿电压 电气工程 功率(物理) 晶体管 物理 放大器 量子力学 工程类 CMOS芯片
作者
Xiang Du,Min-Han Mi,Pengfei Wang,M. Lu,Yuwei Zhou,Can Gong,Xiaoping Ouyang,Xiaohua Ma,Yue Hao
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:126 (7)
标识
DOI:10.1063/5.0245073
摘要

In this work, an AlN/AlxGa1-xN/GaN graded channel HEMT (AlN. GC HEMT) with enhanced power and linearity performance has been proposed. With the adoption of a strong-polarized AlN barrier and a graded AlxGa1-xN channel, a current density of 1806 mA/mm and a transconductance (Gm) gate voltage swing (GVS-Gm) of 7 V were gained. At 3.6 GHz load pull measurements with a drain voltage (VDS) of 8 V, the AlN. GC HEMT exhibited a maximum output power density (Pout) of 2.2 W/mm. Two-tone intermodulation distortion measurement further revealed an output third-order intercept point (OIP3) of 35.5 dBm and a corresponding linearity figure of merit (OIP3/PDC) of 11.2 dB. The improved performance can be attributed to the hybrid 2DEG and 3DEG distribution in the channel, where the high density 2DEG contributes to a large output capacity, and the smooth 3DEG facilitates a sustained and stable charge accumulation with bias variation. These results indicate the potential of AlN. GC HEMT in 5G applications that target high power density and high linearity.
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