Breaking the Ultraviolet Lithography Limit to Achieve Submicron Quantum Dot Light-Emitting Array Devices

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作者
Yuan Qie,Hailong Hu,Kuibao Yu,Rui Wu,Chao Zhong,Renjie Li,Tailiang Guo,Fushan Li
出处
期刊:ACS materials letters [American Chemical Society]
卷期号:: 1269-1274
标识
DOI:10.1021/acsmaterialslett.4c02624
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