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作者
Xiang Cheng,Haoran CHANG,Yan Liu,Chenyang DENG,Xujie YAN
出处
期刊:Guangxue jingmi gongcheng
[Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences]
日期:2023-01-01
卷期号:31 (7): 1022-1030
被引量:1
标识
DOI:10.37188/ope.20233107.1022
摘要
å¨åçå导ä½å¸åºä¸ï¼ç»ç¼æ åæåæ¶ä½ç®¡ï¼Insulated gate bipolar transistorï¼IGBTï¼å碳åç¡ é屿°§åç©å导ä½åºæåºç®¡ï¼Silicon carbide metal-oxide-semiconductor field-effect transistorï¼SiC MOSFETï¼å ·æåºè²çèåæ§ä¸é¢çç¹æ§ï¼éæ¸å代äºä¼ ç»çMOSFETãä¸ºäºæé«IGBTåSiC MOSFET驱å¨çµè·¯çå¯é æ§ï¼è®¾è®¡äºä¸æ¬¾å è¦éç¦»å¼æ æé©±å¨è¯çï¼éè¿ååè®¾è®¡å æ¢æµå¨ä¸é©±å¨çµè·¯ï¼ä»èå®ç°åçéæã使ç¨Silvacoè½¯ä»¶å¯¹å æ¢æµå¨è¿è¡äºä»¿çã仿çç»ææ¾ç¤ºï¼å æ¢æµå¨å¯¹800 nmæ³¢é¿çº¢å¤å çååºåº¦çº¦ä¸º0.277 A/Wï¼-3 dB带宽约为90 MHzãè¿ä¸æ¥å¯¹å è¦çå å¦ç»æè¿è¡ä¼å设计ï¼å®ç°äºæ§å¶ç«¯ä¸å端é«å驱å¨çµè·¯çææé离ï¼ä»èè§£å³äºä¸²æ°é®é¢ã使ç¨Maxchip 0.18 μm 40 V BCDå·¥èºè¿è¡æµçï¼å¹¶å¯¹å°è£ è¯çè¿è¡æµè¯ãå¨å æºè¾å ¥çµæµä¸º10 mAãè¯çä¾çµçµå为12~40 Vãè¾å ¥ä¿¡å·é¢ç为20 kHzçæµè¯æ¡ä»¶ä¸ï¼è¯ççä¼ æå»¶æ¶ä» 为98 nsã
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