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Ion implantation in 4H–SiC

离子注入 离子 材料科学 计算机科学 化学 有机化学
作者
J. Wong‐Leung,Martin S. Janson,Andrej Kuznetsov,B. G. Svensson,M. K. Linnarsson,Anders Hallén,C. Jagadish,D. J. H. Cockayne
出处
期刊:Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B-beam Interactions With Materials and Atoms [Elsevier]
卷期号:266 (8): 1367-1372 被引量:18
标识
DOI:10.1016/j.nimb.2007.12.049

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