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Control of Schottky Barriers in Single Layer MoS2 Transistors with Ferromagnetic Contacts

自旋电子学 肖特基势垒 纳米电子学 量子隧道 材料科学 凝聚态物理 自旋(空气动力学) 光电子学 异质结 晶体管 铁磁性 纳米技术 物理 电气工程 电压 二极管 热力学 工程类
作者
Jen-Ru Chen,Patrick Odenthal,Adrian Swartz,George Charles Floyd,Hua Wen,Kelly Yunqiu Luo,Roland Kawakami
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:13 (7): 3106-3110 被引量:367
标识
DOI:10.1021/nl4010157
摘要

MoS2 and related metal dichalcogenides (MoSe2, WS2, WSe2) are layered two-dimensional materials that are promising for nanoelectronics and spintronics. For instance, large spin–orbit coupling and spin splitting in the valence band of single layer (SL) MoS2 could lead to enhanced spin lifetimes and large spin Hall angles. Understanding the nature of the contacts is a critical first step for realizing spin injection and spin transport in MoS2. Here, we have investigated Co contacts to SL MoS2 and find that the Schottky barrier height can be significantly decreased with the addition of a thin oxide barrier (MgO). Further, we show that the barrier height can be reduced to zero by tuning the carrier density with back gate. Therefore, the MgO could simultaneously provide a tunnel barrier to alleviate conductance mismatch while minimizing carrier depletion near the contacts. Such control over the barrier height should allow for careful engineering of the contacts to realize spin injection in these materials.
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