Pulsed DC bias effect on substrate in TiNx thin film deposition by reactive RF magnetron sputtering at room temperature

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作者
Seiki Kim
出处
期刊:한국표면공학회지 [The Korean Institute of Surface Engineering]
卷期号:52 (6): 342-349
标识
DOI:10.5695/jkise.2019.52.6.342
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