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Interface Reactions of B[sub 2]O[sub 3]-Si System and Boron Diffusion into Silicon

硼 硅 扩散 接口（物质） 材料科学 工程物理 化学 物理化学 光电子学 热力学 物理 吸附 有机化学 吉布斯等温线
作者
Eisuke Arai,Hiroaki Nakamura,Y. Terunuma
出处
期刊：Journal of The Electrochemical Society [Institute of Physics]
日期：1973-01-01 卷期号：120 (7): 980-980 被引量：66
标识
DOI：10.1149/1.2403611
摘要
The interface reactions of the system were studied by infrared spectroscopy, electron and x‐ray diffraction, etc.
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