Characteristics of Anodized Polycrystalline 3C-SiC Thin Films Deposited by Using Chemical Vapor Deposition with Single-precursor Hexamethyldisilane for Different In-situ-doping Concentrations

材料科学 化学气相沉积 原位 微晶 薄膜 兴奋剂 燃烧化学气相沉积 阳极氧化 化学工程 光电子学 纳米技术 碳膜 复合材料 冶金 化学 有机化学 工程类
作者
Kang-San Kim,Gwiy‐Sang Chung
出处
期刊:Journal of the Korean Physical Society [Springer Science+Business Media]
卷期号:59 (2): 285-288 被引量:5
标识
DOI:10.3938/jkps.59.285

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