Influence of annealing temperature in ITO thin films prepared by Thermionic Vacuum Arc (TVA) Technique

薄膜 材料科学 退火(玻璃) 带隙 热离子发射 碳膜 结晶 衍射 分析化学(期刊) 复合材料 光电子学 纳米技术 光学 化学工程 化学 电子 物理 工程类 量子力学 色谱法
作者
Saliha Elmas
出处
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Science+Business Media]
卷期号:34 (3) 被引量:1
标识
DOI:10.1007/s10854-022-09701-9

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