Design and synthesis of radiation-sensitive monomer and polymers for potential application in extreme ultraviolet lithography

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作者
Jingyi Gan,Y LI,Lei Yang,Rui Wang,Chenyu Zheng,Guomin Xiao
出处
期刊:Journal of Polymer Research [Springer Science+Business Media]
卷期号:32 (6)
标识
DOI:10.1007/s10965-025-04435-8
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