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作者
Yuan Hsing Fu,Nanxi Li,Qize Zhong,Yuan Dong,Ting Hu,Dongdong Li,Zhengji Xu,Yanyan Zhou,Keng Heng Lai,Vladimir Bliznetsov,Hou-Jang Lee,Wei Loong Loh,Shiyang Zhu,Qunying Lin,Navab Singh
出处
期刊：Conference on Lasers and Electro-Optics
日期：2020-01-01
卷期号：: SF2R.7-SF2R.7
标识
DOI：10.1364/cleo_si.2020.sf2r.7
摘要
Metalens with fixed-gap nanopillars release fabrication challenges in photolithography on CMOS platform. Their performances are investigated through simulation, and the characterization results of metalens patterned directly on 12-inch glass-wafer via immersion lithography are presented.
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