Hot carrier transfer from plasmon decay in Ag20at H-Si(111) surface: Real-time TDDFT simulation in Wannier gauge

含时密度泛函理论 等离子体子 分子物理学 表面等离子共振 表面等离子体子 量具(枪械) 化学 材料科学 原子物理学 物理 密度泛函理论 纳米技术 光电子学 纳米颗粒 计算化学 冶金
作者
John L Bost,Christopher Shepard,Yosuke Kanai
出处
期刊:Journal of Physics: Condensed Matter [IOP Publishing]
卷期号:37 (4): 045502-045502
标识
DOI:10.1088/1361-648x/ad8b8e
摘要

Abstract Plasmon decay is believed to play an essential role in inducing hot carrier transfer at the interfaces between plasmonic nanoparticles and semiconductor surfaces. In this work, we employ real-time time-dependent density functional theory (RT-TDDFT) simulation in the Wannier gauge to gain quantum-mechanical insights into the nonlinear dynamics of the plasmon decay in the Ag 20 nanoparticle at a semiconductor surface. The first-principles simulations show that the plasmon decay is more than two times faster when the Ag 20 nanoparticle is adsorbed on a hydrogen-terminated Si(111) surface, taking place within 100 femtoseconds of the plasmon excitation. Hot carrier transfer across the interface is observed as the plasmon decay takes place, and nearly 30% of holes are generated deep in the valence band of the semiconductor surface. The use of Wannier gauge in RT-TDDFT simulation is particularly convenient for gaining quantum-mechanical insights into non-equilibrium electron dynamics in complex heterogeneous systems.

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