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Micron-Thick Hexagonal Boron Nitride Crystalline Film for Vacuum Ultraviolet Photodetection with Improved Sensitivity and Spectral Response

响应度 材料科学 紫外线 半最大全宽 拉曼光谱 化学气相沉积 蓝宝石 光电探测器 氮化硼 光电子学 X射线光电子能谱 暗电流 衍射 分析化学(期刊) 光学 纳米技术 化学 激光器 核磁共振 物理 色谱法
作者
Yuqiang Li,Zhuogeng Lin,Wei Zheng,Feng Huang
出处
期刊:ACS applied electronic materials [American Chemical Society]
卷期号:3 (9): 3774-3780 被引量:4
标识
DOI:10.1021/acsaelm.1c00263
摘要

Hexagonal boron nitride crystalline film with a thickness of 70 μm is deposited on a c-plane sapphire at 1700 °C by the chemical vapor deposition (CVD) method. In X-ray diffraction (XRD) characterizations, a peak of (002) is observed at 26.01° with the full width at half-maximum (FWHM) of 1.17°, and the c-axis lattice constant is estimated to be 6.84 Å. The characterization results of Raman and X-ray photoelectron spectroscopy further confirm the film's high quality. Based on the h-BN film, a vacuum ultraviolet (VUV) photodetector is further fabricated with a responsivity of 48.7 μA/W, exhibiting a photo-to-dark current ratio (PDCR) of more than 103 as well as an excellent spectral selectivity to short-wave ultraviolet irradiation. By analyzing the photoresponse process, the influence of different response mechanisms is explained, implying the photodetector's ability to respond quickly.

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