Enchanced reflectance SiN$_x$ / SiO$_x$ DBR mirror based on TEOS precursor fabricated by PECVD method

材料科学 等离子体增强化学气相沉积 表面粗糙度 表面光洁度 反射率 分布式布拉格反射镜 光学 氧化硅 化学气相沉积 光电子学 氮化硅 复合材料 物理 波长
作者
I. M. Asharchuk,M. V. Shibalov,Alexander Mumlyakov,P.A. Nekludova,G. D. Diudbin,E. V. Zenova,N. V. Minaev,A. A. Pavlov,M. A. Tarkhov
出处
期刊:Cornell University - arXiv
标识
DOI:10.48550/arxiv.2112.12525
摘要

In this study, we investigated the influence of silicon oxide roughness produced from the gas precursor monosilane (SiH$_4$) and the silicon-organic precursor tetraethoxysilane (TEOS) on the optical qualities of a distributed Bragg reflector (DBR). A significant influence of the precursors from which SiOx is deposited on the optical qualities of DBR mirrors is demonstrated in this study. It has been shown experimentally that a mirror produced from the TEOS precursor is endowed with better qualities than a mirror produced using SiH4, that is, the reflectivity increased by 20% and optical losses decreased by half. The roughness average (Ra) of the SiN$_x$/SiO$_x$ / (TEOS) mirror surface decreased by a factor of five compared to that of the SiN$_x$/SiO$_x$ / (SiH4) mirror

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