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Influence of hydrogen dilution and doping gas on the material properties of plasma-deposited polycrystalline silicon thin films

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作者

J. D. Hong,Joon‐Ho Oh,Ka‐Hyun Kim

出处

期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2020-07-06 卷期号：709: 138220-138220 被引量：3

标识

DOI：10.1016/j.tsf.2020.138220

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