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Effect of abrasive particle size and oxidant concentration on CdZnTe crystal properties during CMP process

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作者
Xiaoyan Liang,Liang Yin,Jijun Zhang,Wenxuan Yang,Chen Xie,Chao Yu,Linjun Wang,Jiahua Min
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2024-07-08 卷期号：182: 108667-108667 被引量：5
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2024.108667
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