原子层沉积
环戊二烯基络合物
铪
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作者
Sang-Wook Park,Yoona Choi,Sung Soo Park,Hayoon Lee,Kiho Lee,Jongwook Park,Woojin Jeon
出处
期刊：RSC Advances
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：14 (39): 28791-28796
摘要
By introducing iodo, we developed a novel Hf precursor for the HfO 2 ALD deposition process that improved the adsorption characteristics and, in turn, suppressed interfacial layer formation, and enhanced leakage current characteristics.
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