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Robust memory cell cylinder capacitor with cross double patterning technology

电容器 材料科学 圆柱 光电子学 电气工程 工程类 机械工程 电压
作者
Seong-Goo Kim,Cheon Bae Kim
出处
期刊：Solid-state Electronics [Elsevier]
日期：2010-08-03 卷期号：54 (12): 1675-1679
标识
DOI：10.1016/j.sse.2010.07.009
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