Challenges and solutions in Mist-CVD of Ga2O3 heteroepitaxial films

材料科学 化学气相沉积 工程物理 纳米技术 气象学 工程类 物理
作者
Roman Yatskiv,Roman Yatskiv,Ondřej Černohorský,Nikola Bašinová,Jan Grym,A.A. Korchovyi,Alexey Nazarov,J. Maixner
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:186: 109063-109063 被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2024.109063
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