XPS depth profiling of functional materials: applications of ion beam etching techniques

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作者
Dongying Li,Yangfei Chen,Chuanqiang Zhou,Changrui Shi,Zhiqiang Xu,Zhengjie Miao,Zheng Xi,Jie Han
出处
期刊:Materials Chemistry Frontiers [Royal Society of Chemistry]
卷期号:8 (3): 715-731 被引量:48
标识
DOI:10.1039/d3qm01036h
摘要

X-ray photoelectron spectroscopy depth profiling combined with ion beam etching methods is a primary tool to study the chemical composition of functional materials at different scales from the surface to the bulk.
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