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Near-edge x-ray absorption fine structure measurements using a laboratory-scale XUV source

极端紫外线 吸收(声学) 吸收边 材料科学 GSM演进的增强数据速率 光学 物理 光电子学 激光器 计算机科学 电信 带隙
作者
Christian Peth,Frank Barkusky,Klaus Mann
出处
期刊:Journal of Physics D [Institute of Physics]
卷期号:41 (10): 105202-105202 被引量:86
标识
DOI:10.1088/0022-3727/41/10/105202
摘要

We present a compact setup for near-edge x-ray absorption spectroscopy at the carbon K-edge based on a laser-driven plasma source. To generate the required broad-band emission in the spectral range of the 'water window' (lambda = 2.2-4.4 nm) a krypton gas puff target was used. The table-top setup consisting basically of the laser-plasma source and a flat-field spectrometer can be used for near-edge x-ray absorption fine structure experiments in transmission as well as reflection under grazing incidence conditions (ReflEXAFS). The latter method offers the advantage that thin film preparation is not necessary and that the surface sensitivity is strongly enhanced. The results obtained for thin polymer films show good agreement with synchrotron data. Furthermore, we use the ReflEXAFS method to investigate changes in the chemical composition of PMMA induced by extreme ultraviolet (EUV) radiation. The spectra indicate a loss of the carbonyl functional group upon irradiation as well as crosslinking effects at high EUV radiation doses.
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