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Surface treatments of indium tin oxide films by using high density plasma
作者
Jae-Hyung Wi,
Jong‐Chang Woo,
Chang-Il Kim
出处
期刊：
Thin Solid Films
[Elsevier BV]
日期：2011-04-24
卷期号：519 (20): 6824-6828
被引量：7
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2011.04.076
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