Process and characteristics of cobalt films deposited by thermal atomic layer deposition and silicide film formed

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作者
Shuai Yang,Gao Jian-feng,Jinjuan Xiang,Weibing Liu,Yanpeng Hu,Zhenxing Wang,Meng Liang,Lian Li,Qing Liu,Guilei Wang,Junfeng Li,Chao Zhao,J. L. Luo
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:240: 114457-114457
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2025.114457
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