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Methodology for Characterizing Degradation Locations of Planar and Trench Gate SiC Power Mosfets Under Repetitive Short-Circuit Stress

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作者
Yi Yang,Mingchao Yang,Zhaoyuan Gu,Songquan Yang,Chuanyu Han,Weihua Liu,Li Geng,Yue Hao
出处
期刊：IEEE Transactions on Power Electronics [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2024-07-12 卷期号：39 (11): 15056-15069 被引量：4
标识
DOI：10.1109/tpel.2024.3426995
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