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Nanoscale Etching of La0.7Sr0.3MnO3 Without Etch Lag Using Chlorine Based Inductively Coupled Plasma

材料科学 反应离子刻蚀 自旋电子学 蚀刻（微加工） 感应耦合等离子体 光电子学 干法蚀刻 磁电阻 纳米尺度 等离子体刻蚀 纳米技术 等离子体 铁磁性 凝聚态物理 磁场 量子力学 物理 图层（电子）
作者
Nimphy Sarkar,Jaewoo Han,Daryll Joseph Chavez Dalayoan,Satyabrat Behera,Sang-Hyuk Lee,Cheng Chen,Dai‐Sik Kim,Changhee Sohn,Seon Namgung
出处
期刊：Electronic Materials Letters [Springer Nature]
日期：2023-01-07 卷期号：19 (4): 384-390 被引量：3
链接
ac.krdoi.org
标识
DOI：10.1007/s13391-022-00404-1
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