Application of synchrotron radiation to TXRF analysis of metal contamination on silicon wafer surfaces

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作者
P. Pianetta,Katharina Baur,Anoop Pratap Singh,S. Brennan,Jonathan A. Kerner,D. Werho,J Wang
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:373 (1-2): 222-226 被引量:39
标识
DOI:10.1016/s0040-6090(00)01139-1
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