Imaging and manipulation of the competing electronic phases near the Mott metal-insulator transition

莫特绝缘子 莫特跃迁 金属-绝缘体过渡 纳米技术 材料科学 化学物理 金属 化学 凝聚态物理 物理 超导电性 冶金 赫巴德模型
作者
Tae-Hwan Kim,Manuel Angst,Biao Hu,Rongying Jin,X.-G. Zhang,J. F. Wendelken,E. W. Plummer,An‐Ping Li
出处
期刊:Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America [National Academy of Sciences]
卷期号:107 (12): 5272-5275 被引量:47
标识
DOI:10.1073/pnas.1000655107
摘要

The complex interplay between the electron and lattice degrees of freedom produces multiple nearly degenerate electronic states in correlated electron materials. The competition between these degenerate electronic states largely determines the functionalities of the system, but the invoked mechanism remains in debate. By imaging phase domains with electron microscopy and interrogating individual domains in situ via electron transport spectroscopy in double-layered Sr(3)(Ru(1-x)Mn(x))(2)O(7) (x = 0 and 0.2), we show in real-space that the microscopic phase competition and the Mott-type metal-insulator transition are extremely sensitive to applied mechanical stress. The revealed dynamic phase evolution with applied stress provides the first direct evidence for the important role of strain effect in both phase separation and Mott metal-insulator transition due to strong electron-lattice coupling in correlated systems.
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