Fast source mask co-optimization method for high-NA EUV lithography

极紫外光刻 平版印刷术 材料科学 下一代光刻 光学 光电子学 物理 抵抗 纳米技术 电子束光刻 图层(电子)
作者
Ziqi Li,Lisong Dong,Xu Ma,Yayi Wei
出处
期刊:Opto-Electronic Advances [Opto-Electronic Advances]
卷期号:7 (4): 230245-230245
标识
DOI:10.29026/oea.2024.230235
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