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Multipath-induced c-axis orientation of aluminum nitride films deposited using direct-current magnetron sputtering

材料科学 溅射沉积 高功率脉冲磁控溅射 氮化物 直流电 光电子学 溅射 腔磁控管 冶金 复合材料 薄膜 电气工程 纳米技术 图层(电子) 电压 工程类
作者
Hai‐Liang Zhu,Jin Wu,Zhenhuai Yang,Kesheng Guo,Jing Liu,Lei Liu,Chuandong Zhang,Jie Bai,Hong Liu,Yongneng Xiao,Lang Hu,Qiang Hu,Qiang Wang
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
卷期号:189: 109304-109304 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2025.109304
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