Computational Modeling of a Chemical Vapor Deposition Reactor for Epitaxial Silicon Formation

材料科学 化学气相沉积 外延 燃烧化学气相沉积 化学工程 沉积(地质) 核工程 纳米技术 光电子学 薄膜 碳膜 工程类 古生物学 生物 沉积物 图层(电子)
作者
Soyoung Jeon,Hyeonwook Park,HyunJung Oh,Woo Kyoung Kim
出处
期刊:Science of Advanced Materials [American Scientific Publishers]
卷期号:8 (3): 578-582 被引量:4
标识
DOI:10.1166/sam.2016.2509
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